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2018年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景分析【圖】

    預(yù)計(jì) 2018 年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模同比增長(zhǎng) 49%。2017 年全球半導(dǎo)體設(shè)備總市場(chǎng)規(guī)模約為 559 億美元,同比增長(zhǎng) 37.5%,而 2018 年市場(chǎng)規(guī)模為 601 億美元,同比增長(zhǎng) 8%,總體保持穩(wěn)定增長(zhǎng)。 2017 年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備總規(guī)模為 75.9 億美元,同比增長(zhǎng) 17%;而 2018 年市場(chǎng)規(guī)模為 113.3 億美元,同比增長(zhǎng) 49%,中國(guó)大陸將是全球增速最快的市場(chǎng)。 我們認(rèn)為,中國(guó)設(shè)備投資額高速增長(zhǎng)主要由于以下原因: 1)行業(yè)產(chǎn)能逐步向中國(guó)轉(zhuǎn)移,外資在中國(guó)興建晶圓廠; 2) 2014 年《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》正式發(fā)布實(shí)施,其中的亮點(diǎn)之一就是“國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金”的設(shè)立。受此影響, 2016 年各地上馬了一批晶圓廠,目前陸續(xù)開始進(jìn)入設(shè)備安裝階段。
全球 IC 設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模及中國(guó) IC 產(chǎn)品市場(chǎng)規(guī)模占比。

半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)

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中國(guó)市場(chǎng)占比逐步提高

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    預(yù)計(jì)未來幾年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備投資依然保持高增長(zhǎng)。 據(jù) SEMI 統(tǒng)計(jì),中國(guó)晶圓廠的建設(shè)投入在 2017~2018 年大幅增長(zhǎng)。 2017 年建設(shè)投入達(dá)到 60 億美元,預(yù)計(jì) 2018 年達(dá)到 66 億美元,刷新歷史記錄,高額建設(shè)資金投入意味未來幾年將迎來另一波設(shè)備投資高潮。

中國(guó)建設(shè)晶圓加工廠資本支出

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    集成電路產(chǎn)業(yè)可以分為設(shè)計(jì)、制造和封裝測(cè)試三大環(huán)節(jié),設(shè)備投資約占整體投資的~70%。在設(shè)備投資中,晶圓制造環(huán)節(jié)占比~80%,封裝測(cè)試占比 15%,前端 FAB 設(shè)備占比~5%。在晶圓制造中,最主要的核心設(shè)備是薄膜沉積設(shè)備、光刻機(jī)、刻蝕機(jī)和摻雜設(shè)備, 我們估算其規(guī)模分別占設(shè)備投資的~20%、 ~20%、 ~20%和~8%, 其它輔助設(shè)備包括化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備、光刻膠設(shè)備等,占設(shè)備投資的 10%。 在封裝測(cè)試環(huán)節(jié)中,檢測(cè)設(shè)備占設(shè)備總投資的 10%,其余占比約 5%。

中國(guó) IC 設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模占比

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集成電路產(chǎn)業(yè)各環(huán)節(jié)設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模

前道工藝
沉積
光刻
刻蝕
摻雜、熱處理
設(shè)備
CVD、 PVD
光刻機(jī)
刻蝕機(jī)、清洗設(shè)備
離子注入、 RTP設(shè)備
2018年市場(chǎng)規(guī)模(億元)
147
147
147
59
外資企業(yè)
AMAT、 Lam Research、 TEL、 ASM、Hitachi Kokusai
ASML、 Nikon
Lam research  、 TEL、 AMAT 、 Screen
AMAT、 Hitachi kokusai
內(nèi)資
北方華創(chuàng)、沈陽拓荊
沈陽芯源、上海微電子
中微半導(dǎo)體、北方華創(chuàng)、上海盛美、 Mattson
中科信、 Mattson、北方華創(chuàng)
后道工藝
檢測(cè)
封裝
-
-
設(shè)備
檢測(cè)設(shè)備
引線鍵合
-
-
2018年市場(chǎng)規(guī)模(億元)
74
37
-
-
外資企業(yè)
Teradyne、 Advantest、 KLA-tencor
ASM Pacific、 K&S
-
-
內(nèi)資
睿勵(lì)科學(xué)、長(zhǎng)川科技
中電科
-
-

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    國(guó)產(chǎn)化率仍低, 進(jìn)口替代空間大。 目前半導(dǎo)體設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率不到 20%。全球知名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商主要集中在美國(guó)、日本和荷蘭,而 2016 年行業(yè)前十大企業(yè)市場(chǎng)份額為~78%。晶圓制造四大核心設(shè)備中,光刻機(jī)基本被 ASML 壟斷,國(guó)內(nèi)在研發(fā)的企業(yè)有上海微電子。薄膜沉積設(shè)備龍頭也是 ASML,市場(chǎng)占有率達(dá)到 45%,其次是 Lam Research 和TEL,國(guó)內(nèi)企業(yè)能做該設(shè)備的有沈陽拓荊和北方華創(chuàng),但是體量仍然比較小。 本土刻蝕機(jī)制造商主要是中微半導(dǎo)體和北方華創(chuàng),分別生產(chǎn)介質(zhì)刻蝕和硅刻蝕。檢測(cè)設(shè)備中,Teradyne和 Adavantest 基本壟斷了 90%的晶圓測(cè)試市場(chǎng),本土企業(yè)中長(zhǎng)川科技正在研發(fā)晶圓測(cè)試探針臺(tái)。對(duì)標(biāo)龍頭 ASML 95 億美元的收入規(guī)模,我國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)北方華創(chuàng)和長(zhǎng)川科技的收入規(guī)模還非常低,未來發(fā)展?jié)摿薮蟆?/p>

全球前十大晶圓制造設(shè)備供應(yīng)商市場(chǎng)份額

-
2014
2016
排名
公司
國(guó)家
收入(億美元)
市占率%
公司
國(guó)家
收入(億美元)
市占率%
1
Applied Materials
美國(guó)
79.4
21.20%
Applied Materials
美國(guó)
94.6
23.00%
2
ASML
荷蘭
56.4
15.00%
Lam Research
美國(guó)
58.9
14.30%
3
Tokyo Electron
日本
55.4
14.80%
ASML
荷蘭
50.9
12.40%
4
Lam Research
美國(guó)
46.1
12.30%
Tokyo Electron
日本
48.6
11.80%
5
KLA-Tencor
美國(guó)
22.9
6.10%
KLA-Tencor
美國(guó)
24.1
5.80%
6
Screen Semiconduvtor solutions
日本
16.2
4.30%
Screen Semiconduvtor solutions
日本
13.8
3.30%
7
Hitachi High-Technilogies
日本
11.9
3.20%
Hitachi High-Technilogies
日本
9.8
2.40%
8
Nikon
日本
8.9
2.40%
Hitachi Kokusai
日本
7.3
1.80%
9
Hitachi Kokusai
日本
7.6
2.00%
Nikon
日本
7.5
1.80%
10
ASM international
荷蘭
6.6
1.80%
ASM international
荷蘭
6.3
1.50%
-
Others
63.7
17.00%
-
Others
90.3
21.90%
-
Total
375
100.00%
-
Total
412
100.00%
-
中國(guó)占比
28.8
~7%
-
北方華創(chuàng)
1.2
0.30%

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    半導(dǎo)體制造設(shè)備受國(guó)家扶持。國(guó)家對(duì)“IC 設(shè)計(jì)”和“IC 制造”設(shè)定的 2016~2020e 目標(biāo)復(fù)合增速為 26%/22%,而 IC 封裝增速為 15%。另一方面, 2014 年 12 月國(guó)家設(shè)立半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)基金, 一期主要用于扶持晶圓工廠(IC 制造),二期開始扶持 IC 設(shè)計(jì)。 我們認(rèn)為,在政策的大力扶持下,我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)有望加快實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代。

《中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)“十三五”發(fā)展規(guī)劃研究》 對(duì)中國(guó) IC 市場(chǎng)規(guī)劃

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    相關(guān)報(bào)告:智研咨詢發(fā)布的《2018-2024年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)現(xiàn)狀及投資戰(zhàn)略研究報(bào)告

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2026-2032年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備電源行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)及未來趨勢(shì)研判報(bào)告
2026-2032年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備電源行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)及未來趨勢(shì)研判報(bào)告

《2026-2032年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備電源行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)及未來趨勢(shì)研判報(bào)告》共八章,包含中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備電源行業(yè)鏈結(jié)構(gòu)及全產(chǎn)業(yè)鏈布局狀況研究,中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備電源行業(yè)重點(diǎn)企業(yè)布局案例研究,中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備電源行業(yè)市場(chǎng)及投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略建議等內(nèi)容。

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用及監(jiān)控分技

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