半導(dǎo)體CMP設(shè)備

研判2025！中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備?行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、發(fā)展現(xiàn)狀、進(jìn)出口情況、重點企業(yè)及發(fā)展趨勢分析：國產(chǎn)替代加速突破，中國CMP設(shè)備行業(yè)邁向高端化[圖]

半導(dǎo)體CMP（化學(xué)機械拋光）設(shè)備是一種用于晶圓表面全局平坦化的關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過化學(xué)腐蝕與機械研磨的協(xié)同作用，實現(xiàn)納米級超高精度拋光（粗糙度