摘要:離子注入機(jī)是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心工藝設(shè)備,其通過(guò)將特定種類(lèi)離子以精確控制的能量和劑量注入半導(dǎo)體材料,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料電學(xué)性能的精準(zhǔn)調(diào)控。作為現(xiàn)代集成電路制造中不可或缺的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備,離子注入機(jī)在摻雜工藝環(huán)節(jié)發(fā)揮著關(guān)鍵作用,通過(guò)改變半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電特性來(lái)構(gòu)建晶體管等基礎(chǔ)器件結(jié)構(gòu),為大規(guī)模集成電路的產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)提供了堅(jiān)實(shí)的技術(shù)支撐。近年來(lái),5G通信、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的蓬勃發(fā)展帶動(dòng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)擴(kuò)張,直接推動(dòng)了離子注入機(jī)市場(chǎng)的快速增長(zhǎng)。據(jù)統(tǒng)計(jì),中國(guó)離子注入機(jī)市場(chǎng)規(guī)模已經(jīng)從2016年的23.22億元增長(zhǎng)至2024年的141.93億元,年復(fù)合增長(zhǎng)率為25.39%。未來(lái)隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)升級(jí)和國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加速,中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)將迎來(lái)更廣闊的發(fā)展空間。
一、定義及分類(lèi)
離子注入機(jī)是高壓小型加速器中的一種,應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子,經(jīng)過(guò)加速得到幾百千電子伏能量的離子束流,用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離子注入,還用于金屬材料表面改性和制膜等。如今離子注入已是現(xiàn)代微電子工藝中必不可少的一項(xiàng)工藝技術(shù),沒(méi)有其他技術(shù)可以提供與離子注入相當(dāng)?shù)墓に嚳刂坪椭貜?fù)性。離子注入機(jī)與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)和鍍膜機(jī)并稱(chēng)為集成電路半導(dǎo)體裝備四大核心設(shè)備,開(kāi)發(fā)難度僅次于光刻機(jī)。常用的生產(chǎn)型離子注入機(jī)主要有三種類(lèi)型:低能大束流離子注入機(jī)、高能離子注入機(jī)和中束流離子注入機(jī)。
二、行業(yè)政策
由于離子注入機(jī)在集成電路制造前道設(shè)備中的不可替代性和目前被美日龍頭企業(yè)壟斷的市場(chǎng)現(xiàn)狀,我國(guó)在政策上對(duì)離子注入機(jī)重視程度較高,在多項(xiàng)政策中將離子注入機(jī)的研發(fā)列為戰(zhàn)略發(fā)展目標(biāo)。例如,2024年9月,工信部辦公廳印發(fā)《工業(yè)重點(diǎn)行業(yè)領(lǐng)域設(shè)備更新和技術(shù)改造指南》,將“電子元器件關(guān)鍵部件成型設(shè)備:主要更新印刷機(jī)、光刻機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、離子注入機(jī)、分選機(jī)等”列為重點(diǎn)方向。2024年11月,國(guó)家發(fā)展改革委印發(fā)《西部地區(qū)鼓勵(lì)類(lèi)產(chǎn)業(yè)目錄(2025年本)》,將“甘肅省-綠色鍍膜成套裝備研發(fā)及制造,包括真空離子鍍膜、磁控濺射鍍膜、蒸鍍膜離子注入、離子清潔等裝備研發(fā)制造”列為西部地區(qū)新增鼓勵(lì)類(lèi)產(chǎn)業(yè)。
三、行業(yè)壁壘
1、技術(shù)壁壘
離子注入機(jī)作為半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備,涉及等離子體物理、精密機(jī)械、自動(dòng)控制等多學(xué)科交叉技術(shù),技術(shù)復(fù)雜度極高。設(shè)備需要實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精度的離子束控制、超高真空環(huán)境維持以及穩(wěn)定的劑量均勻性,對(duì)關(guān)鍵部件如離子源、質(zhì)量分析器、加速系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和制造要求極為嚴(yán)苛。目前,高能離子注入、超低溫注入等先進(jìn)工藝技術(shù)仍被國(guó)際巨頭壟斷,國(guó)內(nèi)企業(yè)在束流穩(wěn)定性、工藝一致性等方面存在明顯差距,技術(shù)突破需要長(zhǎng)期積累和跨學(xué)科協(xié)同創(chuàng)新。
2、資金壁壘
離子注入機(jī)行業(yè)屬于典型的重資產(chǎn)領(lǐng)域,設(shè)備研發(fā)和產(chǎn)線建設(shè)需要巨額資金投入。單臺(tái)設(shè)備研發(fā)成本通常高達(dá)數(shù)千萬(wàn)美元,涉及高端材料采購(gòu)、精密零部件加工以及復(fù)雜的系統(tǒng)集成。同時(shí),半導(dǎo)體設(shè)備驗(yàn)證周期長(zhǎng),客戶導(dǎo)入需要經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的工藝測(cè)試和量產(chǎn)驗(yàn)證,離子注入機(jī)企業(yè)必須持續(xù)投入維持現(xiàn)金流。高額的研發(fā)投入和漫長(zhǎng)的回報(bào)周期形成了顯著的行業(yè)門(mén)檻,新進(jìn)入離子注入機(jī)行業(yè)的企業(yè)難以在短期內(nèi)實(shí)現(xiàn)資金平衡。
3、研發(fā)周期壁壘
離子注入機(jī)從技術(shù)研發(fā)到商業(yè)化應(yīng)用往往需要5年以上的長(zhǎng)周期,包括原理驗(yàn)證、工程樣機(jī)、客戶測(cè)試等多個(gè)階段。設(shè)備需要與晶圓廠實(shí)際工藝深度磨合,反復(fù)優(yōu)化參數(shù)穩(wěn)定性與可靠性。國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)通過(guò)數(shù)十年技術(shù)迭代積累了豐富的工藝數(shù)據(jù)庫(kù),而后來(lái)者需要從頭構(gòu)建技術(shù)體系,面臨更長(zhǎng)的學(xué)習(xí)曲線。這種長(zhǎng)周期特性使得離子注入機(jī)行業(yè)后發(fā)企業(yè)難以快速追趕,形成顯著的先發(fā)優(yōu)勢(shì)壁壘。
四、產(chǎn)業(yè)鏈
1、行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析
離子注入機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上游為原材料及零部件,其中,原材料包括金屬、陶瓷、高分子材料;零部件包括傳動(dòng)系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、掃描系統(tǒng)、高壓電氣系統(tǒng)等。產(chǎn)業(yè)鏈中游為離子注入機(jī)的設(shè)計(jì)和制造。產(chǎn)業(yè)鏈下游為應(yīng)用領(lǐng)域,包括集成電路、IGBT、太陽(yáng)能電池以及AMOLED面板制造。離子注入機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈如下圖所示:
離子注入機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈





















2、行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)分析
(1)上海萬(wàn)業(yè)企業(yè)股份有限公司
上海萬(wàn)業(yè)企業(yè)股份有限公司主要經(jīng)營(yíng)兩大核心業(yè)務(wù):一方面是專(zhuān)注于集成電路核心裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售與技術(shù)服務(wù),另一方面是存量房地產(chǎn)業(yè)務(wù)的銷(xiāo)售與去化。公司旗下凱世通和嘉芯半導(dǎo)體主要從事集成電路核心裝備業(yè)務(wù)。其中,公司旗下控股子公司凱世通作為國(guó)內(nèi)離子注入機(jī)的設(shè)備領(lǐng)軍者,研發(fā)量產(chǎn)的低能大束流離子注入機(jī)、高能離子注入機(jī)等系列產(chǎn)品。2024年,凱世通獲得3家頭部客戶批量重復(fù)訂單,并新增開(kāi)拓2家新客戶訂單。截至2024年,凱世通的主要產(chǎn)品在客戶銷(xiāo)售方面取得顯著成果:低能大束流離子注入機(jī)客戶已突破11家;超低溫離子注入機(jī)客戶突破7家;高能離子注入機(jī)客戶也突破2家。目前,凱世通已經(jīng)形成了一系列具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的核心技術(shù),先后量產(chǎn)了技術(shù)難度最高、市場(chǎng)需求最大的低能大束流離子注入機(jī)與高能離子注入機(jī),并實(shí)現(xiàn)了12英寸晶圓廠產(chǎn)線應(yīng)用國(guó)產(chǎn)化突破以及產(chǎn)業(yè)化推廣。通過(guò)持續(xù)高強(qiáng)度地自主研發(fā)創(chuàng)新和技術(shù)迭代支持,凱世通已收獲了多家重點(diǎn)客戶的批量重復(fù)訂單,覆蓋邏輯、存儲(chǔ)、功率、CIS四大應(yīng)用領(lǐng)域。數(shù)據(jù)顯示,2024年萬(wàn)業(yè)企業(yè)專(zhuān)用設(shè)備制造收入為2.41億元。
(2)華海清科股份有限公司
華海清科股份有限公司作為一家擁有核心自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高端半導(dǎo)體裝備供應(yīng)商,公司始終堅(jiān)持以技術(shù)創(chuàng)新為企業(yè)發(fā)展的驅(qū)動(dòng)力,并努力踐行“裝備+服務(wù)”的平臺(tái)化發(fā)展戰(zhàn)略,深耕集成電路制造上游產(chǎn)業(yè)鏈關(guān)鍵領(lǐng)域,大力發(fā)掘CMP裝備、減薄裝備、劃切裝備、邊拋裝備、離子注入裝備、濕法裝備、晶圓再生、耗材服務(wù)等集成電路領(lǐng)域的新機(jī)會(huì),持續(xù)優(yōu)化企業(yè)管理體系,強(qiáng)化產(chǎn)品質(zhì)量與客戶服務(wù)保障能力,努力提高產(chǎn)品市場(chǎng)表現(xiàn)及競(jìng)爭(zhēng)能力。在離子注入裝備領(lǐng)域,公司為積極落實(shí)“裝備+服務(wù)”的平臺(tái)化發(fā)展戰(zhàn)略,豐富公司產(chǎn)品品類(lèi),實(shí)現(xiàn)對(duì)離子注入核心技術(shù)的吸收和轉(zhuǎn)化,跨越式地完成新產(chǎn)品和新業(yè)務(wù)板塊布局,公司完成對(duì)芯崳公司的控股權(quán)收購(gòu)。芯崳公司主要從事集成電路離子注入機(jī)的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售,其核心技術(shù)團(tuán)隊(duì)通過(guò)不斷地優(yōu)化和技術(shù)迭代,所開(kāi)發(fā)的新一代束流系統(tǒng)可以提高晶圓顆粒污染控制效果和晶圓的裝載效率。目前芯崳公司實(shí)現(xiàn)商業(yè)化的主要產(chǎn)品為低能大束流離子注入裝備,已實(shí)現(xiàn)多臺(tái)驗(yàn)收,并積極推進(jìn)更多品類(lèi)離子注入裝備的開(kāi)發(fā)驗(yàn)證。據(jù)統(tǒng)計(jì),2024年華海清科半導(dǎo)體行業(yè)營(yíng)業(yè)收入為34.06億元,同比增長(zhǎng)35.81%。
五、行業(yè)現(xiàn)狀
離子注入機(jī)是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心工藝設(shè)備,其通過(guò)將特定種類(lèi)離子以精確控制的能量和劑量注入半導(dǎo)體材料,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料電學(xué)性能的精準(zhǔn)調(diào)控。作為現(xiàn)代集成電路制造中不可或缺的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備,離子注入機(jī)在摻雜工藝環(huán)節(jié)發(fā)揮著關(guān)鍵作用,通過(guò)改變半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電特性來(lái)構(gòu)建晶體管等基礎(chǔ)器件結(jié)構(gòu),為大規(guī)模集成電路的產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)提供了堅(jiān)實(shí)的技術(shù)支撐。近年來(lái),5G通信、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的蓬勃發(fā)展帶動(dòng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)擴(kuò)張,直接推動(dòng)了離子注入機(jī)市場(chǎng)的快速增長(zhǎng)。據(jù)統(tǒng)計(jì),中國(guó)離子注入機(jī)市場(chǎng)規(guī)模已經(jīng)從2016年的23.22億元增長(zhǎng)至2024年的141.93億元,年復(fù)合增長(zhǎng)率為25.39%。未來(lái)隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)升級(jí)和國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加速,中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)將迎來(lái)更廣闊的發(fā)展空間。
六、發(fā)展因素
1、有利因素
(1)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)擴(kuò)張
隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、5G通信等新興技術(shù)的快速發(fā)展,對(duì)高性能計(jì)算芯片、存儲(chǔ)芯片、傳感器芯片等半導(dǎo)體產(chǎn)品的需求不斷增加。這促使半導(dǎo)體制造企業(yè)不斷擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模、提升制程工藝,從而需要更多的離子注入機(jī)設(shè)備來(lái)滿足生產(chǎn)需求。例如,先進(jìn)的制程工藝如3納米、5納米及以下制程的芯片制造,對(duì)離子注入機(jī)的精度、均勻性和效率提出了更高的要求,推動(dòng)離子注入機(jī)技術(shù)的不斷升級(jí)和創(chuàng)新。全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)呈現(xiàn)出區(qū)域多元化發(fā)展的趨勢(shì),除了傳統(tǒng)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)達(dá)地區(qū),亞洲、歐洲等地的一些國(guó)家和地區(qū)也在積極發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),加大了對(duì)離子注入機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備的投資和采購(gòu),為離子注入機(jī)產(chǎn)業(yè)提供了更廣闊的市場(chǎng)空間。
(2)產(chǎn)業(yè)政策的支持
政府將高端裝備制造業(yè)作為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)予以重點(diǎn)支持,出臺(tái)了一系列鼓勵(lì)政策,包括財(cái)政補(bǔ)貼、稅收優(yōu)惠、科研項(xiàng)目支持等,為離子注入機(jī)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了良好的政策環(huán)境。與此同時(shí),政府對(duì)半導(dǎo)體、光伏、納米材料、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的支持,也將間接帶動(dòng)離子注入機(jī)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。例如,政府對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的投資和扶持,將促進(jìn)半導(dǎo)體制造企業(yè)對(duì)離子注入機(jī)等設(shè)備的采購(gòu)和使用。
(3)光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展
在能源轉(zhuǎn)型的大背景下,光伏發(fā)電作為一種清潔、可再生的能源來(lái)源,得到了廣泛地應(yīng)用和推廣。太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)過(guò)程中,離子注入技術(shù)可用于摻雜硅片,提高電池的轉(zhuǎn)換效率和性能。隨著光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,對(duì)離子注入機(jī)的需求也將持續(xù)增加,特別是在新型太陽(yáng)能電池技術(shù)的研發(fā)和生產(chǎn)中,離子注入機(jī)將發(fā)揮重要作用。與此同時(shí),中國(guó)政府紛紛出臺(tái)支持光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的政策,包括補(bǔ)貼、稅收優(yōu)惠、可再生能源配額等,這些政策有力地推動(dòng)了光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,間接帶動(dòng)了離子注入機(jī)市場(chǎng)的增長(zhǎng)。
2、不利因素
(1)技術(shù)門(mén)檻高
離子注入機(jī)包含五大結(jié)構(gòu):離子源、離子引入和質(zhì)量分析器、加速管、掃描系統(tǒng)和工藝腔。其中僅離子源中就涵蓋起弧室、氣化噴嘴、電爐、氣體導(dǎo)入室、DI冷卻水入口、摻雜劑氣體入口等。在半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)體系中,離子注入機(jī)的研發(fā)難度僅次于光刻機(jī),其工藝驗(yàn)證周期長(zhǎng)達(dá)2~3個(gè)月,需待芯片制造完成后通過(guò)電性測(cè)量方能評(píng)估注入質(zhì)量。其中低能大束流離子注入機(jī)是技術(shù)門(mén)檻最高產(chǎn)品,主要是離子存在同性相斥的物理特性,需要處理極端能量和束流大這兩者之間的矛盾。
(2)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)激烈
離子注入機(jī)市場(chǎng)長(zhǎng)期被應(yīng)用材料、亞舍立等國(guó)際巨頭壟斷,頭部企業(yè)憑借先發(fā)優(yōu)勢(shì)構(gòu)建了完善的技術(shù)專(zhuān)利壁壘和客戶粘性。新進(jìn)入者面臨嚴(yán)峻的市場(chǎng)擠壓,不僅需要突破關(guān)鍵技術(shù),還需克服客戶對(duì)設(shè)備可靠性的信任障礙。半導(dǎo)體制造廠商通常與現(xiàn)有供應(yīng)商保持長(zhǎng)期合作關(guān)系,對(duì)更換設(shè)備持謹(jǐn)慎態(tài)度,導(dǎo)致新品牌的市場(chǎng)導(dǎo)入周期漫長(zhǎng)。此外,國(guó)際巨頭通過(guò)垂直整合形成產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同優(yōu)勢(shì),進(jìn)一步鞏固市場(chǎng)地位,新進(jìn)入離子注入機(jī)的企業(yè)難以在短期內(nèi)建立競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
(3)設(shè)備成本較高
離子注入機(jī)作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備,其高昂的成本構(gòu)成了顯著的市場(chǎng)門(mén)檻。設(shè)備研發(fā)需要投入大量資金用于精密部件制造和復(fù)雜系統(tǒng)集成,離子源、質(zhì)量分析器等核心組件的加工精度要求極高,導(dǎo)致生產(chǎn)成本居高不下。同時(shí),離子注入機(jī)運(yùn)行維護(hù)成本昂貴,需要定期更換易損件并保持超高真空環(huán)境,對(duì)廠房設(shè)施和配套系統(tǒng)也有嚴(yán)格要求。工藝驗(yàn)證周期長(zhǎng)且成本巨大,從設(shè)備安裝調(diào)試到最終量產(chǎn)認(rèn)證需要經(jīng)歷復(fù)雜的測(cè)試流程,期間產(chǎn)生的晶圓損耗進(jìn)一步增加了使用成本。
七、競(jìng)爭(zhēng)格局
全球離子注入機(jī)主要以應(yīng)用材料(AMAT)、亞舍立(Acelis)、Intevac、日本Nissin、日本住友、日本真空、VARIAN(瓦里安)及SEN等國(guó)外廠商為主導(dǎo),其中,日本Nissin是AMOLED離子注入機(jī)市場(chǎng)壟斷廠家。國(guó)內(nèi)離子注入機(jī)行業(yè)起步較晚,目前主要企業(yè)有華海清科、萬(wàn)業(yè)企業(yè)、中科信、電科裝備、晉譽(yù)達(dá)、翔域半導(dǎo)體、思銳智能、季華恒一等。
八、發(fā)展趨勢(shì)
未來(lái),中國(guó)離子注入機(jī)行業(yè)將朝著高能量、高精度、高均勻度、低污染這四個(gè)方向發(fā)展。其中,在低污染方面,低污染離子注入技術(shù)是滿足先進(jìn)制程純凈度要求的必然選擇。設(shè)備制造商正致力于減少金屬污染、顆粒污染和交叉污染,通過(guò)改進(jìn)材料選擇、真空系統(tǒng)和部件設(shè)計(jì)來(lái)提升潔凈度水平。無(wú)殘留注入技術(shù)和低溫處理工藝的發(fā)展,有效降低了器件損傷和雜質(zhì)進(jìn)入。
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