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2017年中國半導體設備行業(yè)發(fā)展概況及市場格局分析【圖】

    半導體設備處于產(chǎn)業(yè)鏈上游,貫穿半導體生產(chǎn)的各個環(huán)節(jié),是推動技術進步的關鍵環(huán)節(jié)。半導體設備按工藝流程可將半導體專用設備劃分為晶圓制造、封裝、測試和其他前端設備四個大類。各環(huán)節(jié)主要設備如下表:

主要半導體設備及生產(chǎn)企業(yè)

數(shù)據(jù)來源:公開資料整理

    相關報告:智研咨詢發(fā)布的《2018-2024年中國半導體設備行業(yè)競爭現(xiàn)狀及投資戰(zhàn)略研究報告

    半導體設備是晶圓廠投資的主要部分,目前投資一條 12 英寸的晶圓生產(chǎn)線需要近 50 億美元的投入,其中設備的投入金額上可達到一條晶圓線總投資的 65%以上。我們統(tǒng)計了 2006 年-2016 年全球半導體行業(yè)資本開支的平均情況,設備投資占整個半導體行業(yè)資本投資的 66%,其中晶圓制造設備占比53%,封測設備占比為 13%。且隨著晶圓尺寸的增加、工藝要求的提升,設備也將朝著更加大型化、高端化發(fā)展。

2006-2016 年全球半導體產(chǎn)業(yè)資本支出中設備支出占比 67%

時間
全球半導體資本支出( 億美元)
全球半導體 設備 支出(億美元)
其中: 全球晶圓制造設備支出(億美元)
其中: 全球封測設備支出(億美元)
設備支出占比(% )
其中:晶圓制造設備支出占比(% )
其中封裝測試設備支出占比(%)
2006
563.13
419.50
326.10
93.40
74.50
57.91
16.59
2007
633.19
447.44
360.05
87.39
70.66
56.86
13.80
2008
439.84
306.59
242.14
64.45
69.71
55.05
14.65
2009
258.76
167.43
128.84
38.58
64.70
49.79
14.91
2010
565.26
406.39
316.25
90.14
71.89
55.95
15.95
2011
657.54
440.42
358.22
82.19
66.98
54.48
12.50
2012
587.43
378.33
296.44
81.89
64.40
50.46
13.94
2013
578.40
349.32
287.58
61.74
60.39
49.72
10.67
2014
645.70
409.43
336.84
72.59
63.41
52.17
11.24
2015
647.51
386.86
314.85
72.00
59.75
48.63
11.12
2016
679.94
418.16
340.33
77.83
61.50
50.05
11.45
平均
-
-
-
-
66.17
52.82
13.35

數(shù)據(jù)來源:公開資料整理

    全球半導體行業(yè)已拉開投資大潮的序幕,而中國就是本次浪潮的核心地區(qū)之一,晶圓廠的大幅修建將帶動大量的設備需求,中國設備需求將創(chuàng)歷史新高。根據(jù)預計,2017 年全球晶圓設備支出(含全新與整新)將增長 37%,達到 550 億美元;到 2018 年,將繼續(xù)增長到 580 億美元。而近幾年中國晶圓廠投資規(guī)模也不斷加大,中國將成為本輪增長的核心地區(qū)之一。根據(jù)預測,僅 2018 年一年,中國晶圓廠的設備支出將超過 100 億美元;到 2019 年,中國將成為全球最大的設備需求區(qū)域,且需求量超過以往任何其他地區(qū)的記錄。

預計 2018 年中國晶圓制造設備支出將超過 100 億美元

數(shù)據(jù)來源:公開資料整理

    下游需求的爆發(fā),給中國設備制造企業(yè)帶來了巨大發(fā)展機遇,同時也給國內(nèi)企業(yè)提出更高要求,要想把握本輪發(fā)展機遇,中國企業(yè)仍面臨著技術、人才等各方面的挑戰(zhàn),急需全方位增強自身競爭力。

    中國半導體設備行業(yè)被國際企業(yè)壟斷,本土企業(yè)發(fā)展相對滯后。經(jīng)過多年發(fā)展,我國半導體設備產(chǎn)業(yè)已具備一定規(guī)模,但仍遠落后于美國、日本等制造強國。在中國半導體設備市場,90%以上被國外企業(yè)占據(jù),國內(nèi)企業(yè)市場份額長期低于 10%,且提升緩慢。

中國本土設備企業(yè)占比不足10%

數(shù)據(jù)來源:公開資料整理

    從國內(nèi)現(xiàn)有企業(yè)布局來看,國產(chǎn)半導體專用設備雖然在產(chǎn)品種類布局上已較為齊全,但應用工藝開發(fā)尚不完備,高端產(chǎn)品依賴進口。同時,由于使用國產(chǎn)高端半導體設備要比使用進口設備承擔更大的風險責任,產(chǎn)品品牌認知與國際大廠存在很大差距,故而半導體設備本土化推行進程緩慢,實現(xiàn)快速提升難度較大。但作為半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎,設備的自主化是涉及國家經(jīng)濟發(fā)展的核心問題之一,故而政府給予了多項支持:

     1、政策頻出,予以稅收、金融等多項優(yōu)惠政策。2014 年至今,國家發(fā)出了三項優(yōu)惠政策支持中國半導體設備發(fā)展:《關于調(diào)整重大技術裝備進口稅收政策的通知》、《關于進一步鼓勵集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展企業(yè)所得稅政策的通知》、以及《關于開展首臺(套)重大技術裝備保險機制試點工作的通知》。

    2、大基金目前已入股紫光展訊、中興微電子、艾派克、湖南因科微、北斗星通、深圳因微、盛科網(wǎng)絡、硅谷數(shù)視、芯源微電子、匯頂科技等多個半導體設計企業(yè)。

    實現(xiàn)設備本土化是我國發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)的關鍵之一,關系到我國能否擁有產(chǎn)業(yè)自主權?!吨袊圃?2025》對于半導體設備國產(chǎn)化提出了明確要求:在 2020 年之前,90~32nm 工藝設備國產(chǎn)化率達到 50%,實現(xiàn) 90nm 光刻機國產(chǎn)化,封測關鍵設備國產(chǎn)化率達到 50%。在 2025 年之前,20~14nm 工藝設備國產(chǎn)化率達到 30%,實現(xiàn)浸沒式光刻機國產(chǎn)化。到 2030 年,實現(xiàn) 18英寸工藝設備、EUV 光刻機、封測設備的國產(chǎn)化。

本文采編:CY334
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2026-2032年中國半導體設備電源行業(yè)市場競爭態(tài)勢及未來趨勢研判報告
2026-2032年中國半導體設備電源行業(yè)市場競爭態(tài)勢及未來趨勢研判報告

《2026-2032年中國半導體設備電源行業(yè)市場競爭態(tài)勢及未來趨勢研判報告》共八章,包含中國半導體設備電源行業(yè)鏈結構及全產(chǎn)業(yè)鏈布局狀況研究,中國半導體設備電源行業(yè)重點企業(yè)布局案例研究,中國半導體設備電源行業(yè)市場及投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略建議等內(nèi)容。

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